Qualität PVD Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine für die Beschichtung von Metallteilen der Telefonrückseite Fabrik

PVD Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine für die Beschichtung von Metallteilen der Telefonrückseite

Herkunftsort:Zhaoqing, Guangdong

Markenname:Zhongda

Zertifizierung:CE

Mindestbestellmenge:1

Lieferzeit:45 bis 60 Tage

Tags:

Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungssystem

Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichter

Produktdetails

Hervorheben:

PVD-Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

Vakuum-Beschichtungsmaschine für Metallteile

Beschichtungsmaschine für die Telefonrückseite

Application: Optisch, dekorativ, funktional

Coating Product: Glas, Metall, Kunststoff, Keramik usw.

Coating Color: Gold, Silber, Schwarz, Blau, Grün usw.

Target Size: Anpassbar

Target Material: Ti, Al, Cr, Au, Ag, Cu

Coating Technology: Magnetronsputter

Coatings: Zinn, Tic, Ticn, Tialn, Crn, Cu, Au, DLC

Coating Colors: Schwarz/Blau/Rot/Gold/Roségold/Blau/Silber usw.

Machine Size: Anpassen

Coating Thickness: 0,01–10 Mikrometer

Vacuum System: Hohes Vakuum

Coating Uniformity: ≤ ± 5%

Coating Process: Magnetronsputter

Power Supply: DC/RF/AC

Substrate Material: Glas, Metall, Keramik, Kunststoff

Substrate Size: Anpassbar

Coating Structure: Einzelschicht, Mehrschicht, Gradient usw.

Control System: SPS, Touchscreen, automatisch

Coating Equipment Size: Anpassbar

Coating Material: Metall, Legierung, Keramik, Verbundmaterial

Coating Method: Magnetronsputter

Produktbeschreibung

Detaillierte Spezifikationen & Funktionen

Magnetron-Sputtern

Technologieübersicht

Das Magnetron-Sputtern ist eine vielseitige Physical Vapor Deposition (PVD)Technik, die weit verbreitet ist, um hochwertige Dünnschichten auf verschiedenen Substraten abzuscheiden. Es funktioniert durch Ionisierung eines Edelgases (z. B. Argon) in einer Hochvakuumkammer (Druck < 10⁻³ Torr), wodurch Plasma erzeugt wird. Energetische Ionen aus dem Plasma bombardieren ein Targetmaterial und schleudern Atome aus, die sich dann als gleichmäßige, haftende Schicht auf dem Substrat ablagern. Diese Methode eignet sich besonders für Metalle, Legierungen, Keramiken und Verbundwerkstoffe und bietet eine präzise Kontrolle über die Schichtzusammensetzung und -dicke.

Funktionsprinzip

Plasmaerzeugung: Ein Hochspannungs-Elektrofeld ionisiert Argongas und erzeugt Ar⁺-Ionen und Elektronen.
Magnetische Einschluss: Ein Magnetfeld (senkrecht zum elektrischen Feld) fängt Elektronen in der Nähe der Targetoberfläche ein, wodurch die Ionisierungseffizienz und die Plasmadichte erhöht werden.
Sputterprozess: Beschleunigte Ar⁺-Ionen treffen auf das Target, lösen Atome, die zum Substrat wandern und eine dünne Schicht bilden. Das Magnetfeld minimiert den Elektronenbeschuss des Substrats und reduziert Hitzeschäden.

Hauptvorteile

Gleichmäßigkeit & Haftung: Erzeugt Schichten mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit der Dicke (±5 %) und starker Substrathaftung aufgrund des hochenergetischen Ionenbeschusses.
Materialvielfalt: Kompatibel mit Metallen (z. B. Ti, Cu), Keramiken (z. B. SiO₂, Al₂O₃) und Halbleitern.
Niedertemperaturabscheidung: Geeignet für wärmeempfindliche Materialien wie Kunststoffe und Polymere.
Prozesskontrolle: Ermöglicht eine präzise Abstimmung der Schichteigenschaften (z. B. Leitfähigkeit, Härte) über Plasmaparameter.
Mehrkomponentenbeschichtungen: Unterstützt das Co-Sputtern mehrerer Targets zur Herstellung von Legierungen oder Gradientenschichten.

Angewandte Industrien

Elektronik: IC-Gehäuse, Display-Panels und Photovoltaikzellen.
Optik: Entspiegelungsbeschichtungen, Spiegel und optische Filter.
Werkzeugbau: Verschleißfeste Beschichtungen für Schneidwerkzeuge und Formen.
Automobil: Dekorative und korrosionsbeständige Oberflächen auf Zierteilen und Komponenten.
Medizin: Biokompatible Beschichtungen für Implantate und Instrumente.

Beschichtungseffekte & Farben

Oberflächenausführungen: Metallischer Glanz, matte Texturen oder strukturierte Muster.
Farbbereich: Silber, Gold, Schwarz, Blau und kundenspezifische Farbtöne durch reaktives Sputtern (z. B. TiN für goldähnliche Oberflächen).

Strukturtypen

Planarmagnetron: Ideal für großflächige Abscheidung (z. B. Glas oder Paneele).
Rotationsmagnetron: Erhöht die Targetausnutzung und die Abscheidungsrate für zylindrische oder gekrümmte Substrate.
Unbalanciertes Magnetron: Erzeugt Plasma mit hoher Ionendichte für dichte, haftende Schichten.

Substratmaterialien

Kunststoffe (ABS, PET, PC), Glas, Keramik, Metalle und Verbundwerkstoffe.

Beschichtungsmaterialien

Metalle: Ti, Cr, Ag, Al, Cu, Au.
Keramiken: SiO₂, Al₂O₃, TiO₂, Si₃N₄.
Legierungen: NiCr, TiAl und Superlegierungen.

Unterstützende Produktionslinien

Integriert mit Nachbeschichtungsprozessen wie UV-Härtung oder Plasmabehandlung für verbesserte Funktionalität.

Verbrauchsmaterialien

Targetmaterialien (metallisch/keramisch), Argongas und Sputter-Netzteile.

Anwendungen

Optik: Hochreflektierende Spiegel und Blendschutzbeschichtungen.
Elektronik: Transparente leitfähige Oxide (ITO) für Touchscreens.
Luft- und Raumfahrt: Wärmedämmschichten auf Turbinenschaufeln.
Architekturglas: Beschichtungen mit niedrigem Emissionsgrad (Low-E) für Energieeffizienz.

Anpassung

Unsere Systeme bieten modulare Designs mit konfigurierbaren Magnetron-Arrays, Vakuumpumpsystemen und Prozesssteuerungssoftware, um spezifische Abscheidungsanforderungen zu erfüllen.

Magnetron-Beschichtungsanlagenmodell (Höhe ≤ 1,3 m)
Modell	Lion-0710	Lion-1012	Lion-1212	Lion-1412	Lion-1612	Lion-1813
Vakuumkammer	Ф700×H1000mm	Ф1000×H1200mm	Ф1200×H1200mm	Ф1400×H1200mm	Ф1600×H1200mm	Ф1800×H1300mm
Anwendung	Uhrenindustrie, 3C-Industrie, Sanitärindustrie, Schmuckindustrie
Anwendung	Uhrenzubehör, Handy-Zubehör, Brillengestelle, Kleidung, dekorative Beleuchtung, Sanitärkeramik, Hardware-Koffer, Glas, Keramik und Kunststoff usw.
Beschichtungsfilm	Ti-Gold, Roségold, Champagnergold, Japanisches Gold, Hellsilber, Regenbogen, Schmuckblau, Rosenrot, Schwarz usw.
Vakuum	Vertikale Türstruktur, ausgestattet mit Luftpumpsystem und Wasserkühlsystem
Vakuumsystem	Haltepumpe + mechanische Pumpe + Roots-Pumpe + Diffusionspumpe oder Molekularpumpe (spezifisches Modell nach Kundenanforderungen)
Vakuum	1 Satz Pirani, 1 Satz Kathodenkaltkathode, 1 Satz Membranmanometer
Versorgungsart	DC-Strom, MF-Strom, Impulsstrom (Vorspannungsstrom, Lichtbogenstrom)
Ultimativ	1,0- 6,0×10-4Pa, Nicht-Last-Kühlung

Vorspannungsstrom	20KW/1 Satz	20KW/1 Satz	20KW/1 Satz	30KW/1 Satz	40KW/1 Satz	60KW/1 Satz
Magnetron-Netzteil	1-2 Sätze	1-2 Sätze	2-3 Sätze	2-3 Sätze	3-4 Sätze	3-4 Sätze
Rotation	Mehrachsige Planetenbewegung mit Frequenzregelung (kann gesteuert und angepasst werden)
Backen Temperatur	Normaltemperatur～300℃ bis 450℃ ～600℃ kann gesteuert und angepasst werden (PID-Temperaturregelung)
Gas	3 oder 4 Wege Arbeitsgasflussregelung und Anzeigesystem passend zum automatischen Gaszugabesystem
Gas	Ar, N2, O2, C2H2,etc.
Kühlung Methode	Wasserkühlkreislauf, ausgestattet mit Industriekühlturm oder industriellem Wasserkühler (Kältemaschine) oder Kryogensystem (Kunden stellen bereit)
Steuerung	Manuell, halbautomatisch, automatisch, Touchscreen-Bedienung, SPS- oder computergesteuert
Luftdruck	0,5-0,8 MPa
Wasser	≤25℃ ≥0,2 MPa
Warnung	Das Alarmsystem funktioniert bei Wassermangel, Überspannung, Stromkreisunterbrechung und anderen anormalen Situationen und führt entsprechende Schutzmaßnahmen durch
Gesamtleistung	25~65KW	45~85KW	65~105KW	85~115KW	95~125KW	100~130KW
Ausgang	Spannung 380V, Frequenz 50Hz (entsprechend dem nationalen Stromstandard der Kunden)
Besetzung	15~50m²	15~50m²	25~55m²	25~55m²	35~55m²	35~55m²
Bemerkung	Entwurf und Herstellung von Sondermaschinen nach Kundenwunsch, kann Magnetron-Sputter-Target, MF-Zwillings-Target usw. hinzufügen.

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