magnetron sputtering vacuum coating machine
,multi-arc ion sputtering vacuum chamber
,deposition magnetron sputtering machine
- Установка вакуумной среды: для снижения давления внутри камеры покрытия до высокого вакуумного состояния (обычно ≤ 10−3Pa) используется вакуумный насос.предотвращение воздействия молекул воздуха на отложение пленки.
- Разбуждение плазмы: в камеру вводится инертный газ (например, аргон), и между целью (материалом покрытия, например, алюминиевым, титановым,ITO) и субстрат для ионизации газа аргона и генерации плазмы.
- Магнитное распыление: магнитное поле используется для ограничения траектории движения электронов, повышая эффективность столкновения между электронами и молекулами аргона.Это заставляет ионы аргона бомбить поверхность цели на высокой скорости.; атомы-мишень "распыляются", перемещаются по прямой линии и оседают на поверхности субстрата, образуя равномерную пленку.
- Высокое качество пленки: пленка имеет хорошую однородность (отклонение может контролироваться в пределах ± 5%) и сильное сцепление с субстратом, что уменьшает вероятность ее оскребления или трещин.
- Высокая эффективность покрытия: Конструкция с использованием магнитного поля для ограничения электронов значительно улучшает скорость распыливания.
- Широкая адаптивность материала: применимые материалы покрытия включают металлы (алюминий, медь, серебро), сплавы (нержавеющая сталь, титановый сплав) и соединения (ITO, SiO2, Al2O3), отвечающие различным функциональным требованиям.
- Экологичность и отсутствие загрязнения: Весь процесс не имеет выбросов жидких химических отходов или вредных газов, и использует только инертные газы и твердые цели, соответствующие современным промышленным стандартам охраны окружающей среды.
| Промышленность применения | Примеры конкретных применений | Основные требования |
|---|---|---|
| Электронная информационная промышленность | Покрытие микроскопических электродов, проводчивая пленка ITO для дисплея, магнитная пленка для головки | Высокая проводимость, однородность пленки, точное управление |
| Оптическое поле | Антиотражательная пленка для очков, фильтрующая пленка для объективов фотоаппаратов, лазерных объективов | Низкая отражательность, высокая светопроницаемость, износостойкость |
| Декоративное и функциональное покрытие | Декоративные пленки для оборудования (например, титановое золото, циркониевое золото), износостойкие пленки для режущих инструментов | Эстетика, коррозионная стойкость, высокая твердость |
| Новая энергетическая промышленность | Литийная батарея, покрытие на столбиках, антиотражательная пленка для фотоэлектрического стекла | Высокая адгезия, эффективность серийного производства, низкая стоимость |
- Степень вакуума: конечный вакуум ≤5*10−5Pa, рабочий вакуум 1*10−3 - 5*10−1Pa
- Конфигурация цели: одноцелевая, двойная или многоцелевая (поддерживает распыливание постоянного тока, радиочастот и средней частоты), размер цели Φ50-300 мм
- Размер подложки: можно настроить; обычные размеры покрывают листовые материалы (100*100мм - 1000*1000мм) и катушные материалы (ширина ≤1600мм)
- Скорость осаждения: 0,5-10 мкм/мин для металлических пленок, 0,1-2 мкм/мин для оксидных пленок
- Температура нагрева подложки: комнатная температура - 500°C (доступен точный контроль температуры, разница температуры ±2°C)
Оборудование для магнетронного напыления для нанесения покрытий на аппаратные части мобильных телефонов, изготавливаемое по индивидуальным требованиям заказчика, установка PVD-напыления
I. Core Structure The magnetron sputtering coating equipment for mobile phone hardware parts is a dedicated device designed for small hardware parts such as mobile phone frames, keys, and camera decorative rings. Its core structure is divided into five major modules: vacuum system, sputtering system...
Высокоточная машина для распыливания магниторонного тока постоянного тока с настраиваемым размером и многослойным покрытием для металла и стекла
DC Magnetron Sputtering Machine - Vacuum PVD Coating System This high-precision DC Magnetron Sputtering Machine is designed for superior vacuum PVD coating applications on metal and glass substrates. The equipment features rational structure design, uniform coating distribution, excellent quality ...
Магнетронная распылительная вакуумная установка с технологией многодугового ионного осаждения, индивидуальным размером камеры и высокой плотностью покрытия ≥99,9% для декоративных и функциональных применений
Magnetron Sputtering Vacuum Coating Machine Professional PVD vacuum coating magnetron sputtering machine specifically designed for cutlery and tableware applications, including knives. Working Principle Vacuum magnetron sputtering coating utilizes an orthogonal electromagnetic field where charged ...
Промышленная магнетронная распылительная вакуумная установка для нанесения покрытий с высокой скоростью осаждения и превосходным качеством пленки для широкой совместимости материалов
Industrial Grade Reaction Magnetron Sputtering Vacuum Coater Machine Professional PVD vacuum coating system designed for high-end hardware and stainless steel parts with advanced magnetron sputtering technology. Product Specifications Product Type PVD Vacuum Coating Machine Primary Applications High...
